簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "方劭云".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="次級解析輔助特徵"


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    1
    基於適應性預測模型之光罩圖案設計
    • 自動化及控制研究所 /110/ 碩士
    • 研究生： 郭鎧瑜   指導教授： 郭鴻飛
    • 在記憶體DRAM製造的過程中，透過微影製程技術將設計之光罩轉印至光阻為一項至關重要的技術，但隨著線寬持續微縮，193nm浸潤式微影製程上達到物理極限，必須透過解析度增強技術(Resolution E…
    • 點閱：392  下載：0 
    • 全文公開日期 2024/09/16 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/09/16 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/09/16 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    應用基因演算法於含次級解析輔助特徵圖案之光學鄰近修正技術
    • 自動化及控制研究所 /106/ 碩士
    • 研究生： 黃鈺儒   指導教授： 郭鴻飛
    • 由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難，無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產，因此吸引許多研究者尋找改善方案，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
    • 點閱：944  下載：23 

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    機器學習結合光罩圖案程序開發
    • 自動化及控制研究所 /108/ 碩士
    • 研究生： 陳賜平   指導教授： 郭鴻飛
    • 由於極紫外光微影系統技術尚未廣泛應用，目前生產線上仍大部分為ArF-193nm浸潤式微影系統，因此有許多研究者尋找此系統優化方法，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應的最佳光源模…
    • 點閱：283  下載：11 
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